ITO靶材通过磁控溅射制备ITO薄膜,广泛应用于太阳能、LCD、TP,TFT液晶市场等领域
烧结法是世界上主流的ITO靶材生产方式,
常压烧结是当前日本ITO靶材烧结的主流技术
采用烧结法生产ITO靶材的公司有许多 ,高端TFT-LCD用ITO靶材均来自日本的东曹、日立、日矿金属JX,住友、日本能源、三井金属、韩国三星康宁、韩国ANP等公司
ITO靶一般主要性能及参数
成份: In2O3:SnO2=90/10(wt%) 其他比例以客户要求为准
相对密度: ≥99.5%(理论密度7.15g/cm3)
纯度: 99.99%
尺寸规格:依据客户要求为准
高性能ITO靶材主要技术特性有:
1)纯度:其纯度达到99.99%以上,主要杂质元素Cu、Fe、Pb、Si、Ni分别小于10 ppm,
总杂质含量不超过100 ppm。
2)相对密度:相对密度要求在99.5%以上,密度均匀度偏差≤0.15%。
3)组织均匀性:SnO2固熔到In2O3中形成单一的In2O3相,
Sn在靶中均匀分布,晶粒细微均匀。
4)电阻率小于0.14mΩ·㎝。
5)抗折强度:≥120MPa。
ITO靶材通过磁控溅射制备ITO薄膜
一、ITO靶材,即掺锡氧化铟(Indium Tin Oxide,简称ITO)靶材,是一种应用广泛的透明导电材料,由氧化铟(In₂O₃)与少量的氧化锡(SnO₂)粉末按一定比例(通常为9:1)混合而成。这种材料因其优异的光学透过率和电导率,在液晶显示器(LCD)、触摸屏、光伏电池和有机发光二极管(OLED)等领域展现出了重要的应用价值。我司深耕靶材领域十多年,专注研发与生产,铸就行业精品。公司生产氧化物靶材材料如下:
OXIDES 氧化物 | |
Aluminum Oxide (Al2O3) | Magnesium Oxide (MgO) |
Antimony Oxide (Sb2O3) | Zirconium-Magnesium Oxide(ZrMgO3) |
Barium Titanate (BaTiO3) | Magnesium-Zirconium Oxide (MgZrO3) |
Bismuth Oxide (Bi2O3) | Molybdenum Oxide (MoO3) |
Bismuth Titanate (Bi2Ti4O11) | Nickel-Chrome Oxide (CrNiO4) |
Cerium Oxide (CeO2) | Nickel-Cobalt Oxide(NiCoO2) |
Cobalt-Chrome Oxide (CoCr2O4) | Niobium Pentoxide (Nb2O5) |
Chromium Oxide (Cr2O3) | Rare Earth Garnets A3B2(SiO4)3 |
Chromium Oxide (Eu doped) | Rare Earth Oxides (La2O3) |
Gallium Oxide (Ga2O3) | Silicon Dioxide (SiO2) |
Germanium Oxide (GeO3) | Silicon Monoxide (SiO) |
Hafnium Oxide (HfO2) | Tantalum Pentoxide (Ta2O5) |
Indium Oxide (In2O3) | Tin Oxide (SnO2) |
Indium-Tin Oxide (ITO) | Titanium Dioxide (TiO2) |
Iron Oxide (Fe2O3) | Tungsten Oxide (WO3) |
Lanthanum Oxide(La2O3) | Yttrium Oxide (Y2O3) |
Lead Titanate(PbTiO3) | Yttrium-Aluminum Oxide (Y3Al5O12) |
Lead Zirconate (ZrPbO3) | Zinc Oxide (ZnO) |
Lithium Niobate (LiNbO3) | Zinc Oxide/Aluminum Oxide (Al2O3) |
Lithium-Cobalt Oxide (CoLiO2) | Zirconium Oxide (ZrO2) |
二、ITO靶材的特性
1、纯度:ITO靶材的纯度对其性能有着至关重要的影响。高质量的ITO靶材通常要求有99.99%(4N)至99.999%(5N)的高纯度。纯度越高,杂质越少,靶材产生的薄膜缺陷也相应减少,从而提高薄膜的光学和电学性能。
2、密度:ITO靶材的密度直接影响溅射效率和薄膜的质量。一般来说,ITO靶材的密度应接近理论密度的95%以上,这有助于确保溅射过程中靶材的稳定性和薄膜的均匀性。
3、熔点:ITO靶材的熔点较高,这使其在溅射过程中能够承受较高的温度而不发生熔化或变形。高熔点特性保证了靶材在溅射过程中的稳定性和耐用性。
三、磁控溅射制备ITO薄膜材料
磁控溅射法是目前工业上应用较广的镀膜方法,其基本原理是在电场和磁场的作用下,被加速的高能粒子(如氩离子Ar⁺)轰击ITO靶材表面,使靶材表面的原子脱离原晶格而逸出,溅射粒子沉积到基体表面与氧原子发生反应而生成氧化物薄膜。这种方法制备的ITO薄膜具有均匀性好、附着力强、光学和电学性能优异等特点。
四、ITO薄膜在行业中的应用优势
1、显示器行业:在LCD、OLED等平板显示器中,ITO薄膜作为透明导电电极,负责传导电流并不阻挡光线通过。其高透光率(通常高于90%)和较低的电阻率(典型为10⁻⁴Ω·cm)使得显示器能够在不影响图像清晰度的情况下,高效传导电流以驱动显示像素。此外,ITO还具有较强的化学稳定性和机械耐久性,确保电极在长时间使用过程中不会轻易损坏。
2、光伏行业:在太阳能电池中,ITO薄膜作为透明电极,能够有效提升电池的光电转换效率。它通常覆盖在光吸收层的顶部,通过最大化光线穿透并最小化电流损耗来提高能效。特别是在薄膜太阳能电池和钙钛矿太阳能电池中,ITO的应用潜力巨大。
3、触摸屏行业:电容式触摸屏利用电场变化来感应用户的触摸动作,而ITO薄膜作为透明导电电极,决定了触摸屏的工作效率和体验质量。其高导电性和高透光性确保了触摸屏的灵敏度和视觉体验。
4、传感器行业:在气体传感器、生物传感器等领域,ITO薄膜常用于制作敏感层或电极。其优异的导电性和化学稳定性使得传感器能够准确、稳定地检测目标物质。
5、其他应用:ITO薄膜还广泛应用于智能窗户、防静电涂层和电磁屏蔽等领域。其导电性使其成为电子设备防静电干扰和电磁屏蔽的理想材料。
****,ITO靶材通过磁控溅射制备的ITO薄膜材料因其高纯度、高密度、高熔点等特性以及广泛的应用优势,在显示器、光伏、触摸屏和传感器等行业发挥着****的作用。随着技术的不断进步和应用的不断拓展,ITO靶材和ITO薄膜材料的前景将更加广阔。