17312472090
高纯ITO靶材 PVD磁控溅射靶材 科研材料 背板绑定
品牌1: aetoes
报价: 200.00元/件
最小起订: 1 件
库存: 100 件
发货期限: 自买家付款之日起 3 天内发货
有效期至: 长期有效
发布时间: 2024-12-26 13:14
发布IP: 112.3.80.172
浏览次数: 8
手机号: 17312472090
电话: 0512-89573086
详细信息

ITO靶材通过磁控溅射制备ITO薄膜,广泛应用于太阳能、LCDTP,TFT液晶市场等领域

烧结法是世界上主流的ITO靶材生产方式,

常压烧结是当前日本ITO靶材烧结的主流技术

采用烧结法生产ITO靶材的公司有许多 ,高端TFT-LCDITO靶材均来自日本的东曹、日立、日矿金属JX住友、日本能源、三井金属、韩国三星康宁、韩国ANP等公司

 

ITO靶一般主要性能及参数

成份: In2O3:SnO2=90/10(wt%) 其他比例以客户要求为准

相对密度: ≥99.5%(理论密度7.15g/cm3)

纯度: 99.99%

尺寸规格:依据客户要求为准

 

高性能ITO靶材主要技术特性有:

1)纯度:其纯度达到99.99%以上,主要杂质元素CuFePbSiNi分别小于10 ppm,

总杂质含量不超过100 ppm

2)相对密度:相对密度要求在99.5%以上,密度均匀度偏差≤0.15%

3)组织均匀性:SnO2固熔到In2O3中形成单一的In2O3,

             Sn在靶中均匀分布,晶粒细微均匀。

4)电阻率小于0.14mΩ·㎝。

5)抗折强度:120MPa

 

 ITO靶材通过磁控溅射制备ITO薄膜

一、ITO靶材,即掺锡氧化铟(Indium Tin Oxide,简称ITO)靶材,是一种应用广泛的透明导电材料,由氧化铟(In₂O₃)与少量的氧化锡(SnO₂)粉末按一定比例(通常为9:1)混合而成。这种材料因其优异的光学透过率和电导率,在液晶显示器(LCD)、触摸屏、光伏电池和有机发光二极管(OLED)等领域展现出了重要的应用价值。我司深耕靶材领域十年,专注研发与生产,铸就行业精品。公司生产氧化物靶材材料如下:

OXIDES 氧化物

Aluminum Oxide (Al2O3)

Magnesium Oxide (MgO)

Antimony Oxide (Sb2O3)

Zirconium-Magnesium Oxide(ZrMgO3)

Barium Titanate (BaTiO3)

Magnesium-Zirconium Oxide (MgZrO3)

Bismuth Oxide (Bi2O3)

Molybdenum Oxide (MoO3)

Bismuth Titanate (Bi2Ti4O11)

Nickel-Chrome Oxide (CrNiO4)

Cerium Oxide (CeO2)

Nickel-Cobalt Oxide(NiCoO2)

Cobalt-Chrome Oxide (CoCr2O4)

Niobium Pentoxide (Nb2O5)

Chromium Oxide (Cr2O3)

Rare Earth Garnets A3B2(SiO4)3

Chromium Oxide (Eu doped)

Rare Earth Oxides (La2O3)

Gallium Oxide (Ga2O3)

Silicon Dioxide (SiO2)

Germanium Oxide (GeO3)

Silicon Monoxide (SiO)

Hafnium Oxide (HfO2)

Tantalum Pentoxide (Ta2O5)

Indium Oxide (In2O3)

Tin Oxide (SnO2)

Indium-Tin Oxide (ITO)

Titanium Dioxide (TiO2)

Iron Oxide (Fe2O3)

Tungsten Oxide (WO3)

Lanthanum Oxide(La2O3)

Yttrium Oxide (Y2O3)

Lead Titanate(PbTiO3)

Yttrium-Aluminum Oxide (Y3Al5O12)

Lead Zirconate (ZrPbO3)

Zinc Oxide (ZnO)

Lithium Niobate (LiNbO3)

Zinc Oxide/Aluminum Oxide (Al2O3)

Lithium-Cobalt Oxide (CoLiO2)

Zirconium Oxide (ZrO2)

 

二、ITO靶材的特性

1、纯度ITO靶材的纯度对其性能有着至关重要的影响。高质量的ITO靶材通常要求有99.99%(4N)至99.999%(5N)的高纯度。纯度越高,杂质越少,靶材产生的薄膜缺陷也相应减少,从而提高薄膜的光学和电学性能。

2、密度ITO靶材的密度直接影响溅射效率和薄膜的质量。一般来说,ITO靶材的密度应接近理论密度的95%以上,这有助于确保溅射过程中靶材的稳定性和薄膜的均匀性。

3、熔点ITO靶材的熔点较高,这使其在溅射过程中能够承受较高的温度而不发生熔化或变形。高熔点特性保证了靶材在溅射过程中的稳定性和耐用性。

三、磁控溅射制备ITO薄膜材料

磁控溅射法是目前工业上应用较广的镀膜方法,其基本原理是在电场和磁场的作用下,被加速的高能粒子(如氩离子Ar⁺)轰击ITO靶材表面,使靶材表面的原子脱离原晶格而逸出,溅射粒子沉积到基体表面与氧原子发生反应而生成氧化物薄膜。这种方法制备的ITO薄膜具有均匀性好、附着力强、光学和电学性能优异等特点。

四、ITO薄膜在行业中的应用优势

1、显示器行业:在LCD、OLED等平板显示器中,ITO薄膜作为透明导电电极,负责传导电流并不阻挡光线通过。其高透光率(通常高于90%)和较低的电阻率(典型为10⁻⁴Ω·cm)使得显示器能够在不影响图像清晰度的情况下,高效传导电流以驱动显示像素。此外,ITO还具有较强的化学稳定性和机械耐久性,确保电极在长时间使用过程中不会轻易损坏。

2、光伏行业:在太阳能电池中,ITO薄膜作为透明电极,能够有效提升电池的光电转换效率。它通常覆盖在光吸收层的顶部,通过最大化光线穿透并最小化电流损耗来提高能效。特别是在薄膜太阳能电池和钙钛矿太阳能电池中,ITO的应用潜力巨大。

3、触摸屏行业:电容式触摸屏利用电场变化来感应用户的触摸动作,而ITO薄膜作为透明导电电极,决定了触摸屏的工作效率和体验质量。其高导电性和高透光性确保了触摸屏的灵敏度和视觉体验。

4、传感器行业:在气体传感器、生物传感器等领域,ITO薄膜常用于制作敏感层或电极。其优异的导电性和化学稳定性使得传感器能够准确、稳定地检测目标物质。

5、其他应用ITO薄膜还广泛应用于智能窗户、防静电涂层和电磁屏蔽等领域。其导电性使其成为电子设备防静电干扰和电磁屏蔽的理想材料。

****,ITO靶材通过磁控溅射制备的ITO薄膜材料因其高纯度、高密度、高熔点等特性以及广泛的应用优势,在显示器、光伏、触摸屏和传感器等行业发挥着****的作用。随着技术的不断进步和应用的不断拓展,ITO靶材和ITO薄膜材料的前景将更加广阔。


相关产品
相关磁控溅射产品
联系方式
  • 地址:江苏省苏州市昆山市东昌园36号
  • 电话:0512-89573086
  • 手机:17312472090
  • 联系人:陈先生
产品分类
最新发布